製品説明
紫外線ピコ秒レーザー切断機はピコ秒紫外線レーザー(<15ps) with a laser wavelength of 355nm. It's suitable for high-speed laser etching, peeling, etching, scribing, dicing, material removal, and fabrication on various material surfaces. Simultaneously, it can perform micro-machining such as scribing and grooving on the surfaces of materials such as silicon wafers, ceramics, sapphire, glass, metals, and polymer materials, meeting the cutting and drilling needs of ultra-thin materials (metals, carbon fibers, glass, silicon wafers, PET, PI, composite materials, etc.). It is the ultimate manufacturing tool for cutting-edge fields such as precision electronics, biomedicine, and scientific research.
設備紹介
紫外線ピコ秒超高速レーザー マイクロ- ナノ加工装置には、30W 紫外線ピコ秒レーザーが装備されています。独自に開発した制御ソフトウェアを使用して、検流計とリニアモーターをリアルタイムに調整します。 CAD データをインポートした後、CCD ビジョン位置決めシステムが自動的にレーザーをエッチングします。超高精度のモーションおよび光学システム、インテリジェントな監視および制御システム、電動昇降ワークテーブル、独自の除塵システムと組み合わせることで、ほぼ完璧な加工品質を実現します。-
利点
UV + ピコ秒の 2 つの技術的利点: 高い光子エネルギーが材料の化学結合を直接破壊し、「コールド」処理を実現します。集束スポットサイズが非常に小さく、ほとんどの材料に対して高い吸収性を備え、加工中の炭化を排除します。ピコ秒パルス幅 (<15ps), heat-affected zone approaches zero, materials are directly vaporized and removed without microcracks, maintaining the original mechanical properties of the material.
技術データ
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アイテム |
Pパラメータ |
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レーザ |
355nm 30W ピコ秒赤外線レーザー |
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レーザーパルス幅 |
<15ps |
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加工エリア |
300×300mm |
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単一の切断領域 |
50×50mm |
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最小線幅 |
15μm |
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レーザー周波数範囲 |
100Hz~2000kHz |
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最小行間隔 |
20µm |
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テーブル位置決め精度 |
±2µm |
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真直度 |
±5μm |
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テーブルの再現性 |
±2µm |
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Z-軸移動 |
50mm |
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CCD 自動位置決め精度- |
±2µm |
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スキャン速度 |
最高速度 5000mm/s |
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装置寸法 |
1500mmL×1650mmW×1800mmH |
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吸着システム |
ファン風量 100m3/h |
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チラー |
ウォーターチラーの温度制御範囲は18度~24度、温度制御精度は0.2度以下です。 |
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消費電力 |
3000W |
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ソフトウェアシステム |
検流計スキャンとプラットフォーム移動連動機能を備えています。レーザー加工パラメータを制御する機能も備えています。また、CAD ファイルのインポート要件を満たし、1 GB を超える図面の処理に対応します。 |
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機器ケーシング |
この装置は完全に密閉されており、レーザーが人に危険を及ぼさないように内部ドアスイッチが付いています。 |
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処理可能なファイル形式 |
標準DXFファイル |
応用産業
1.ディスプレイおよびタッチコントロール産業
LED/LCD パネルの切断: 亀裂やバリがなく、フレキシブル スクリーン、ハード スクリーン、特殊形状のスクリーンの切断に適しています。{0}
ガラスカバー(携帯電話カバー、カメラ保護レンズなど)の正確な切断と穴あけ。
2. 半導体とマイクロエレクトロニクス
ウェーハのスライスと切断
パッケージ基板の微細加工。
FPC および HDI 基板の正確な輪郭切断と窓付け
3. 精密光学と光通信
光学ガラス、石英、サファイアなどの硬脆材料の微細構造加工。
光ファイバー、光導波路、フィルターなどの微細な切断やマーキング。
4. 新エネルギー分野
-リチウム電池電極シート(銅箔/アルミ箔)の傷のない切断。
太陽電池セルのエッジ分離、フィルム開口部およびラインマーキング (PERC、TOPCon、HJT)。
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